日化廠反滲透純水設備不清洗有什么后果嗎？

2020-06-11 10:23:51

      日化廠反滲透純水設備如果出現后述情況時，說明反滲透系統需要清洗了。常見問題，如產水量下降十分之一、鹽透量或是壓差增加了一倍就需清洗（這里要注意溫度對產水量的影響，溫度下降產水量也會下降）。那么，大家知道反滲透純水設備不清洗有什么后果嗎？如果疏于對反滲透設備的清洗，這樣的話原水中的污染物必然會對設備造成污染的，既而使設備水質達不到要求，嚴重的造成設備無法正常運行。因此，當我們發現反滲透設備產出的水中出現肉眼可見的雜物、污染物、絮凝物的時候這說明反滲透設備受到了污染，這時候應及時停機對設備進行清洗。

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一、物理清洗方法
      常見簡單的方法就是用低壓沖洗反滲透膜半小時，可以讓反滲透膜的性能得到一定的恢復，但長期用此法透水率仍會下降。還有一種方法就是用水和空氣的混合流體低壓沖洗膜表面，時間約為15分鐘，此法在初期有不錯的效果。
二、化學清洗方法
      化學清洗方法是利用化學藥劑進行清洗的，針對不同的污染物要選用不同的化學藥劑進行清洗。以下是幾種常見的藥劑清洗操作步驟，可供參考。
      1）檸檬酸清洗：在采用檸檬酸溶液進行清洗之前，先用軟化水或者 RO 產品水對膜元件進行沖洗。向清洗水箱中添加檸檬酸（白色粉末），對溶液進行連續的攪動，使檸檬酸迅速和充分溶解，使檸檬酸溶液濃度達到 2%（質量百分比）。在添加藥品之前，將大塊的藥品敲碎，以避免對攪拌器和水泵造成損壞；
       2）十二烷基磺酸鈉清洗：配制 0.025%（質量百分比濃度）十二烷基磺酸鈉和 0.1%（質量百分比濃度）NaOH 溶液，控制溶液溫度小于 30℃，其 pH 控制范圍在 pH12 以內。此種方法作為系統的第一步化學清洗；

       3）六聚偏磷酸鈉+鹽酸的清洗：向水中添加 SHMP（白色粉末），小批量逐步添加，以達到 1.0%濃度（質量百分比）溶液。使用攪拌器連續地攪拌溶液，使化學藥品均勻混合。緩慢的將鹽酸（HCl）添加到 SHMP 溶液中，直到溶液的 pH 值達到 2。鹽酸（HCl）是一種腐蝕性的無機酸，在處理鹽酸時要注意安全規則。溶液的 pH 值應該接近，但是要大于 2。 如果在清洗期間溶液的 pH 值升高超過 3.5，則要添加鹽酸（HCl）直到 pH 值恰好大于 2。如果 pH 值降低到小于 2，使用 NaOH 進行調節。NaOH 是一種腐蝕性無機堿，在使用時要注意安全規則。
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